전체 글30 반도체 설비의 전체적 개요 반도체 설비의 개요 반도체 공정 설비의 기준이 되는 챔버(chamber)는 진공, 열, 가스 등 필요한 파라미터를 제어할 수 있는 공간이다. 챔버 안에서 주로 공정이 진행되며 진공 상태에서 목적에 맞게 관련 파라미터를 조절하여 원하는 공정을 진행하게 된다. 열역학적으로 챔버는 단절된 계 상태로 만들어 온도나 압력 등을 제어하여 재현성 있는 공정이 진행되도록 설계하였다. 챔버가 없는 열린계 상태에서는 공정 파라미터를 동일하게 하더라도 재현성이 확보되지 않은 결과를 가져올 수도 있다. 대학교 연구실 수준에서는 챔버를 단독으로 사용하는 경우가 많지만, 양산에서 쓰는 설비에는 챔버를 여러 개 달아서 생산성을 극대화할 수 있도록 클러스터(Cluster) 형태의 설비를 사용한다. 웨이퍼가 설비에 로딩이 되면 먼저 .. 2022. 10. 23. 여러가지 반도체 공정 개요 1. 8대 공정 반도체 공정은 기본적으로 박막에 패턴을 만들고 이런 패턴들이 위에 쌓이게 되면서 입체적인 구조에서 목적하는 기능을 구현하는 소자를 만드는 것이다. 이를 위해서는 막을 쌓고 그 막에 패턴을 만들고 깎아 내야 하며 그 안에 또 다른 물질을 채워 넣어야 한다. 이런 일련의 과정을 반도체 공정이라고 한다. 대략 Photo, Etch, CVD, Metal, Diffusion, Implant, CMP, Clean 8개의 유닛 공정을 명시하고 있다. 사실 8대 공정은 현재의 제조 기술에 맞춰 중요한 공정들을 분류하여 놓은 것이고, 이는 기술의 발전에 따라 다른 공정이 더 추가될 수 있다. 중요한 것은 반도체 공정은 이런 각 유닛 공정을 반복적으로 하여 원하는 구조의 칩을 제조한다는 것이다. 2. 전공.. 2022. 10. 23. 반도체 기업과 관련된 핵심 전공 소개 반도체 개발을 하고 싶은, 혹은 업에 몸담고 싶은 사람들은 많은데 정작 어떠한 것을 공부해야 하는지 알려주는 것은 많지 않다. 반도체 분야가 전문화되어 있기 때문에 적당한 자료를 찾기 쉽지 않기 때문이다. 이번 포스팅은 세분화하지 않은 커다란 형태로 분류하여 필요한 전공을 나누고 향후 개발에 도움이 될 수 있도록 할 것이다. 1. 반도체 소자/공정/제조 반도체 소자/공정/제조 업무와 가장 밀접한 전공은 전기/전자(반도체, 물리 전자) 전공이다. 반도체 제품에 있어 가장 중요한 소자 설계의 경우, 실제로 디자인한 소자가 어떠한 특성을 가질지 예측하고 만들어진 소자에 대해 평가하기 위해서는 물리에 뒷받침한 이론적 이해가 필요하다. MOSFET 소자의 동작 이해나, FinFET과 같은 새로운 구조의 소자 이해.. 2022. 10. 22. 반도체 장비 부품 산업 및 부대설비 산업 1. 반도체 장비 부품 산업 반도체 장비가 중요한 만큼 이를 구성하는 장비 부품 역시 중요하다. 반도체 공정은 특성상 부식성 가스나 고열을 사용하는 경우가 많아 높은 화학적, 열적 내구성이 있어야 하는 경우가 많다. 매우 적은 변성에 의해서도 수율에 영향을 받을 수 있으므로 새로운 재료를 연구하고 부품을 적용하는 것 역시 중요하다. 반도체 제조 업체에서는 매번 새로운 비싼 부품을 갈아 낄 수 없으므로 주기적으로 화학적 세척, 세정을 통해 수명을 늘리는 노력을 한다. 또한 전문적으로 부품의 세정 및 재생을 진행하는 업체도 다수 존재한다. 대표적인 소모품으로는 가스의 흐름을 감지하고 유량을 조절하는 MFC(Mass Flow Controller), 반도체 공정을 진행할 때 웨이퍼를 고정하는 할을 하며 화학 가.. 2022. 10. 22. 이전 1 ··· 3 4 5 6 7 8 다음
