Semiconductor30 반도체 정의와 분류 및 기초 1. 반도체 정의 반도체에 대한 정의를 복습해보면, 반도체란 '반도체 물질'을 의미한다. 먼저 전기전도도로 설명하면, 전류가 잘 흐르는 도체와 잘 흐르지 않는 부도체의 중간 정도의 전기전도도를 가지는 물질을 반도체라고 하였다. 또한 밴드갭(Band gap)으로 설명하면 가전자대(Valence Band)와 전도대(Conduction band) 사이의 밴드갭이 0eV보다 크고 5eV보다 작은 경우를 반도체라고 정의한다. 반도체 물질 중 가장 대표적인 실리콘(Si)은 4족 원소로 그들끼리 공유결합을 이뤄 결정 구조를 이룬다. 이처럼 불순물이나 결함이 없는 거의 완벽한 반도체를 진성 반도체(Intrinsic semiconductor)라 한다. 절대온도 0K에서는 전자의 열 생성이 없어 전자가 반도체 공유결합 내.. 2022. 10. 24. 반도체 관련 물리전자 기초 1. 반도체 산업 관련 전기적 용어 1. 전하와 캐리어, 전류 어떤 물질이 가지고 있는 전기의 양을 전하라 한다. 전하는 물질이 가지고 있는 고유한 전기적 성질이자 전기현상을 일으키는 원인이다. 전기가 통한다, 전류가 흐른다 등등 전기와 관련된 모든 것은 전하로부터 시작한다. 모든 전기적인 효과는 전하의 공간적 분포 및 운동에 의해 나타난다고 말할 수 있다. 전하는 플러스(+) 전기와 마이너스(-) 전기에 대응하여 각각 +전하인 양전하와 -전하인 음전하를 정의할 수 있다. 이들은 같은 극끼리는 반발력이 작용하고, 다른 극끼리는 인력이 작용하여 서로 끌어당기는 성질을 지닌다. 전류(Current)는 이러한 전하들의 흐름을 나타낸 것으로, 단위 시간 동안에 흐른 전하의 양으로 정의한다. 전류의 방향은 이동하.. 2022. 10. 23. 반도체 8대 공정 : 포토 공정 (Photolithography) 반도체 산업은 지난 40여년간 '반도체 소자의 집적도는 18개월마다 두 배씩 증가한다.'는 무어의 법칙에 따라 발전해왔다. 이렇게 소자의 집적도를 향상하는 데 가장 핵심적인 역할을 한 것은 바로 포토 공정(Photolithography)이라고 말할 수 있다. 포토 공정은 1G DRAM 생산을 기준으로 소자가 완성되기까지 약 20~25회 적용되는 최대 진행 공정으로 메모리 제조 공정 시간의 60%, 총 생산원가의 약 35%를 점하고 있다. 포토 공정은 원하는 회로설계를 만들어놓은 마스크라는 원판에 빛을 쬐어 생기는 그림자를 웨이퍼 상에 전사시켜 복사하는 기술이다. 반도체의 제조 공정에서 설계된 웨이퍼 위에 형성하는 매우 중요한 공정이다. 포토 기술은 필름 카메라 사진 작업과 비슷하다. 사진을 찍고자 하는 .. 2022. 10. 23. 반도체 공정 필수 조건, 플라즈마 보통 고체, 액체, 기체에 이은 '제4의 물질 상태'라고 하는 플라즈마(Plasma)는 기체 상태의 분자나 원자가 이온화되어 전자와 양이온이 섞여 있어서 국부적으로는 극성을 가지지만 전체적으로는 중성 상태인 이온화 가스이다. 우리가 매일 접하는 태양의 경우도 플라즈마의 일종인데 태양의 플라즈마는 모든 원자가 이원화되어 있는 높은 에너지 상태의 고온 플라즈마이고, 우리가 반도체 공정에서 사용하는 플라즈마는 기체 분자 중 0.001% 이하 정도가 이온화되어 있는 저온 플라즈마이다. 저온 플라즈마는 보통 방전 현상에 의해서 발생하고 이러한 방식으로 형성된 플라즈마를 글로우 방전(Glow Discharge) 플라즈마라고 부른다. 플라즈마는 일종의 기체 상태이지만 이온 및 전자의 존재로 인해 전기 전도체이고, 자.. 2022. 10. 23. 이전 1 2 3 4 5 6 7 8 다음
